毫无疑问中科院排名居首高达18篇，跳槽清华大学和北京大学紧随其后。

联网密歇根大学的Suljo Linic团队[1]就在等离子激元介导的小分子活化体系中就证实了光热催化的路径之一是间接电子转移（indirect electron transfer）。人逃如埃默里大学的Lian[2]等人就阐释了一种可实现热电子直接注射的直接电子转移策略。

针对这一问题，出大厂莱斯大学的Peter Nordlander和Naomi J.Halas[3]等人通过研究氨气分解来分析光和热激发的作用。研究显示，真香光激发空穴和电子可分别用于STO上的甲烷氧化和铑上的二氧化碳还原。跳槽这一光催化剂设计可对未来高效工业过程产生重大的影响。

然而，联网这一反应具有热力学转换限制，同时对高热能具有一定的要求。在光或者热的帮助下，人逃这些转变都可得以推进。

金属-半导体电荷分离路径[2]除了间接路径以外，出大厂也有研究提出了在金属/半导体异质结构中可能存在直接电子转移（direct electron transfer）机制，出大厂以解决电子-电子散射的问题。

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